ZMI-2002 8020-0211-1-J

测量轴数:双轴

分辨率:小于1纳米(<1 nm)

测量精度:±0.1微米(0.1µm)

工作温度范围:0°C至+40°C

尺寸:229 x 114 x 29 mm

重量:1.2 kg

接口类型:VME 6U,支持VME总线系统。

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描述

ZMI-2002 8020-0211-1-J

ZMI-2002 8020-0211-1-J是一款高性能的双轴测量板卡,主要用于精密位移和角度测量。其核心功能包括干涉测量技术、CMOS阵列传感器以及633 nm激光光源,能够提供小于1纳米的分辨率和±0.1微米的测量精度。

产品参数

测量轴数:双轴

分辨率:小于1纳米(<1 nm)

测量精度:±0.1微米(0.1µm)

工作温度范围:0°C至+40°C

尺寸:229 x 114 x 29 mm

重量:1.2 kg

接口类型:VME 6U,支持VME总线系统。

产品规格

光源:633 nm激光

传感器:CMOS阵列

测量范围:X轴50 mm,Y轴25 mm

IP等级:IP54

功率消耗:最大20W。

系列

ZMI-2002 8020-0211-1-J属于ZYGO公司的ZMI系列测量板卡,该系列专注于高精度光学测量设备,适用于科研、工业和精密制造领域。

特征

高精度测量:采用干涉测量技术和先进的数字信号处理算法,确保高精度测量。

双轴同步测量:可同时测量两个方向的位移,适用于复杂三维表面或轮廓的测量。

高兼容性:支持VME接口,便于集成到现有的系统中。

耐用设计:IP54防护等级,适应工业环境。

作用与用途

ZMI-2002 8020-0211-1-J的主要作用是实现高精度的位移和角度测量,广泛应用于以下领域:

工业自动化:用于精密机械部件的制造和质量控制。

科学研究:光学元件测试、表面形貌分析等。

电信:信号质量监测和稳定性控制。

半导体制造:晶圆检测、平板显示器制造等。

精密机械加工:用于精密零件的轮廓测量和表面粗糙度分析。

应用领域

ZMI-2002 8020-0211-1-J的应用领域非常广泛,包括但不限于:

光学元件制造(如镜片、透镜)。

半导体加工(如晶圆检测)。

精密机械部件制造(如模具、机械零件)。

科学研究(如光学实验、材料分析)。

工业自动化(如数控机床、机器人导航)

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ZMI-2002 8020-0211-1-J