ASML 4022-502-25243

型号:4022-502-25243

制造商:ASML

功能:用于光刻机的光源反射系统

工作环境:

工作温度:15°C至35°C

工作湿度:20%至80%RH(无凝露)

存储温度:-20°C至60°C

存储湿度:10%至90%RH(无凝露)

防护等级:IP54,防尘防水

安全认证:符合CE、FDA和IEC 60825-1标准

分类: 品牌:
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描述

ASML 4022-502-25243

ASML 4022-502-25243是一款用于光刻设备的椭圆形反射镜组件,属于光刻机光学系统的关键部件。该组件主要用于光刻机的光源系统,能够确保光刻过程中光源的高精度反射和聚焦。

产品参数

型号:4022-502-25243

制造商:ASML

功能:用于光刻机的光源反射系统

工作环境:

工作温度:15°C至35°C

工作湿度:20%至80%RH(无凝露)

存储温度:-20°C至60°C

存储湿度:10%至90%RH(无凝露)

防护等级:IP54,防尘防水

安全认证:符合CE、FDA和IEC 60825-1标准

优势和特点

高精度光学性能:能够确保光刻过程中光源的高精度反射和聚焦。

高可靠性:采用高质量材料制造,具备良好的耐用性和稳定性。

数据存储和日志记录:可能具有存储和记录数据的功能,便于后续分析和故障排除。

安全特性:具备过温保护、过流保护、欠压保护等多重保护机制。

应用领域和应用案例

半导体制造:用于光刻机的光源反射系统,支持高精度光刻工艺。

科研与实验:用于高精度光学实验设备。

竞品对比

技术优势:ASML在光刻机光学系统领域处于全球领先地位,其反射镜组件在精度和可靠性方面优于其他竞争对手。

兼容性:与ASML的光刻机系统高度兼容。

可靠性:具备完善的保护机制和长寿命设计。

选型建议

工艺需求匹配:如果需要高精度和高可靠性的光学反射组件,ASML 4022-502-25243是理想选择。

技术支持:建议选择能够提供长期技术支持和维护服务的供应商。

环境要求:确保设备安装在符合要求的环境中,避免高温、高湿度和灰尘。

注意事项

专业安装与维护:建议由经过培训的专业技术人员进行安装和维护。

定期校准:定期进行设备校准,确保长期稳定运行。

环境控制:使用环境应保持清洁,维持恒定的温度和湿度

深圳长欣自动化设备有限公司是您值得信赖的合作伙伴,我们提供[产品型号]及其他自动化备件的销售和技术支持。请访问我们的网站https://www.dcsmro.cn或联系我们,我们将竭诚为您服务。

ASML 4022-502-25243

ASML 4022-502-25243